詳細摘要： 標配日立生產(chǎn)的照射系統(tǒng)球差校正器（附自動校正功能）搭載具有高輝度、高穩(wěn)定性的冷場FE電子槍鏡體和電源等的高穩(wěn)定性使機體的性能大幅度提升觀察像差校正SEM/STE...
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時間：2025-01-10 在線留言深圳市汐品科技有限公司
深圳市汐品科技有限公司
詳細摘要： 標配日立生產(chǎn)的照射系統(tǒng)球差校正器（附自動校正功能）搭載具有高輝度、高穩(wěn)定性的冷場FE電子槍鏡體和電源等的高穩(wěn)定性使機體的性能大幅度提升觀察像差校正SEM/STE...
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詳細摘要： 新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。0.4 nm / 30 kV (SE)1.2 nm / 1 kV (SE)0.34 nm / 30 kV (STE...
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詳細摘要： 沿用"SU8200系列"的冷場發(fā)射電子槍*2采用電子束在Flashing后出現(xiàn)的高亮度穩(wěn)定區(qū)域作為穩(wěn)定觀察的區(qū)間，使得低加速電壓條件下兼?zhèn)涓叻直嬗^察和分析的性能...
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詳細摘要： FlexSEM 1000 II，憑借全新設計的電子光學系統(tǒng)和高靈敏度檢測器，可在加速電壓20 kV下實現(xiàn)4.0 nm的分辨率。全新開發(fā)的用戶界面，具有亮度和對焦...
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詳細摘要： 高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像HAADF-STEM圖像0.136 nm，F(xiàn)FT圖像0.105 nm(高分辨率鏡頭*)HAADF-STEM圖像0.144 nm(標...
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詳細摘要： 以創(chuàng)新的操作性，滿足廣泛領域的需求。新一代TEM"RuliTEM"誕生。"RuliTEM"120 kV透射電子顯微鏡系列，包含配備高襯度透鏡，實現(xiàn)大視野、高對比...
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詳細摘要： 1) 支持超大/超重樣品測試 可搭載的樣品尺寸：“SU3800" 標配可搭載直徑200mm樣品的樣品倉，可應對高度為80mm、重量為2kg的樣品?！癝U390...
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詳細摘要： 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分...
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詳細摘要： 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置...
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詳細摘要： 日立ArBlade 5000離子研磨系統(tǒng)能夠實現(xiàn)高產(chǎn)量，并制備廣域橫截面樣品?！ ‰x子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預...
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詳細摘要： 臺式掃描電子顯微鏡(SEM)全新升級。我們以“更高畫質、更易于使用、更易于觀察"為理念，開發(fā)出TM4000系列。在此基礎上，我們又推出功能更為多樣的TM4000...
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詳細摘要： 核心理念采用優(yōu)異的成像技術SU7000可以迅速獲取從大視野全貌圖到表面微細結構等多種檢測信號。全新設計的電子光學系統(tǒng)和檢測系統(tǒng)，使得裝置可以同時接收二次電子和背...
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詳細摘要： MI4050是具有以下特征的高性能聚焦離子束系統(tǒng)：新型電子光學系統(tǒng)，可達到高水準的SIM像分辨率?大束流使加工速度得以提升?提高了低加速電壓的分辨率，使得高品質...
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詳細摘要： 追求的TEM樣品制備工具在設備及高性能納米材料的評價和分析領域，F(xiàn)IB-SEM已成為的工具。近來，目標觀察物更趨微細化；更薄，更低損傷樣品的制備需求更進一步凸顯...
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詳細摘要： 追求理想的三維結構分析通過自動重復使用FIB制備截面和進行SEM觀察，采集一系列連續(xù)截面圖像，并重構特定微區(qū)的三維結構。采用的鏡筒布局，從材料、設備到生物組織—...
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詳細摘要： 1. 搭載兩種透鏡模式的高性能SEM鏡筒HR模式下可實現(xiàn)高分辨觀察（半內透鏡）FF模式下可實現(xiàn)高精度加工終點檢測（Timesharing Mode）2. 高通量...
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